第三百七十一章 七纳米和七纳米

    第三百七十一章 七纳米和七纳米 (第1/3页)

    启动会在冰芯的总部办公楼。

    冰芯和源智在同一个园区，两家的距离只有几百米。

    韩路一四人直接步行过去。

    冰芯这边除了廖伯韬亲自坐镇，工艺、封装、验证、生产各个部门的一把手也都在场。

    两边一个是万亿市值的行业龙头，一个是千亿估值的行业新贵，双方都对这次合作表示出了足够的重视。

    只不过，韩路一这边是抱着对合作主导权势在必得的态度来的，不知道冰芯是不是也有同样的想法。

    两边寒暄、介绍，各自入座。

    冰芯这边的工艺负责人姓丁，叫丁耀先，他先站了起来。

    大家谈了合作意向之後，冰芯这边也没闲着，已经有技术团队配合着源智提供的原始设计图纸把l100的成品拆解了一遍。

    这些信息都被放在了幻灯片里。

    这个幻灯片很有工程师风格，很没有网际网路风格。

    一张幻灯片里面密密麻麻的参数、线宽、间距、金属层限制铺满了整个屏幕，让人眼花缭乱。源智这边除了薛兆恒是大半个专家，其他的人对这个基本上是一无所知。

    丁耀先对着幻灯片一通比划，介绍了一些技术细节，最後给出了结论：「如果把l100现有的设计迁移过来，晶片面积预计增加百分之三十以上，目标频率需要下调百分之十到百分之二十。」

    虽然来之前源智这边已经统一了意见，不做l100，也不按照l100的思路去做l200。

    但赵文渊还是忍不住问道：「怎麽差了这麽多？」

    目标效率降百分之二十，也就意味着同样的预算、同样的算法，竞争对手叠代五轮的时间，你只能叠代四轮。

    这对模型训练，甚至对大模型厂商的产品竞争力都有着致命的影响。

    廖伯韬轻轻地叹了口气。

    「丁工，源智的朋友们是新客户，可能不太清楚，你还是先给他们做个科普吧。」

    丁耀先点了点头，转身走到白板边上，拿起一只马克笔，在白板左边写了一个「七纳米」，然後在白板右边又写了一个「七纳米」。

    然後面向源智众人，开口说道：「虽然都叫七纳米，但七纳米和七纳米可不一样。」

    「晶片生产，是用光『刻』出来的，所以生产设备叫光刻机。光的波长越短，能刻出来的线条就越细，电晶体就能做得越小。euv用的是极紫外线，波长只有十三点五纳米，一次曝光就能刻出来。」

    「台积电的七纳米，用的就是euv，每平方毫米能塞进去将近一亿个电晶体，良率稳、频率高，之前英伟达、苹果、amd用的都是这套工艺。更别说现在他们都已经稳定生产三纳米，甚至两纳米了。」「冰芯现在做的七纳米，因为买不到euv，只能用duv光刻机做多次曝光来模拟。duv用的是深紫外线，波长将近两百纳米，想要刻出同样的线条，人家曝光一次，我们要反覆曝光好几次。多一次曝光，就多一次误差。电晶体密度打了折扣，漏电控制也差。」

    「同样一份电路设计图，从台积电搬到冰芯的工艺上，晶片面积就是更大、频率就是更低、功耗就是更高。」丁耀先说这话的时候语气也透露出一阵愤怒来。

    韩路一听懂了，冰芯就像是在拿着粗刻

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